本研究利用当前的实验和宇宙学约束（包括振荡参数、CMB对中微子质量总和的限制、有效电子中微子质量的运动学极限以及无中微子双贝塔衰变结果），重新评估了中微子质量矩阵中含一个零和两个零的纹理。

  • 对于含两个零的纹理，仅在CMB约束下，几种结构仍然可行，其中$B$系列纹理预测狄拉克CP相位约为$π/2$和$3π/2$。
  • 当应用更强的CMB+BAO约束时，仅$A$系列含两个零的纹理仍然可行。
  • 机器学习技术（具体为flow matching）被用于分析含一个零的纹理，揭示出某些结构已被当前数据排除。
  • 允许的含一个零的纹理结构对以下物理量提供了不同的预测：中微子质量总和（$\sum_i m_i$）、有效电子中微子质量（$m_{ν_e}^{

m eff}$）、有效马约拉纳质量（$\langle m_{ee}\rangle$）以及狄拉克CP相位（$δ_{ m CP}$）。

  • 作者讨论了含一个零的纹理结构如何可能源于不可逆的选择定则。